這個時期,手機行業的競爭正在迅速形成。


    市場日益激烈。


    翻蓋手機被製造出來了,滑蓋手機也開始出現,這讓那些手機廠商,根本無暇分心研究觸摸屏這個領域。


    再加上,現在的客戶,他們更在意手機是否結實耐用、電池續航時間長不長,等等“質量”問題,所以誰也不會浪費時間,金錢,去考慮製造市場看不上的手機。


    陳偉東提出來的這個設想,索尼公司並不好看,但看在他的“巨資”份上,還是很樂意陪他瘋一把的。


    因為這不僅可以累積經驗,也可以加快技術的革新。


    無論怎麽看,都是雙贏。


    離開索尼公司之後,陳偉東馬上就打電話聯係了陳傑,跟他說明了前期需要的準備工作。


    包括和索尼公司的一些合作細節。


    想要跨越最少十年的技術壁壘,可不是一件容易的事情。


    光是一個手機的操作係統,就不是一般的難。


    雖然無窮大計算機公司,有上千名優秀的程序員,但他們擅長的是應用軟件開發,對於如何設計一款手機操作係統,完全就是抓瞎。


    最後,計算機部門經過研究討論,決定還是從模彷開始。


    否則從無到有,光是摸索,就要花費大量的時間。


    山寨,永遠是追上對方技術腳步最快的方法。


    他們找來和塞班公司聯名開發的新款手機,準備先剖析塞班係統的內核,然後嚐試設計出一款簡單的操作係統,最後再加以改進....


    這個時候,由於無窮大公司和精密研究所的關係緩和,不少研究人員又陸續回到了實驗室。


    他們樂得嘴都合不攏了,都在交口稱讚,還是陳傑大度。


    然後,就一頭鑽進了實驗室,繼續他們之前沒有完成的研究。


    按理來說,他們這些“外來人員”,使用公司的儀器,是要收費的,但陳傑通過趙工了解到,精密研究所簡直窮的叮當響,一年的經費都才七八百萬。


    這也就讓他實在沒好意思開口要錢。


    克魯格教授,也在最近一個月,和陳傑等人進行了多次討論,終於確定了研究方向。


    他現在的首要目標,就是設計出一款芯片圖紙,這個難度非常大,需要很多人配合。


    小小的芯片,集合了全人類的智慧,其實就連美利堅,也沒辦法完全掌握所有的環節。


    一枚手機芯片的麵積基本上隻有10平方毫米左右,也就是和大拇指甲蓋差不多大。


    而且這裏麵可不是隻有cpu一個結構,其他諸如gpu,npu,isp,dac解碼芯片,基帶等等結構全部都要位列其中。


    設計師要把幾十億個晶體管,排列在這個指甲大小般的區域內,並讓它們準確無誤的進行工作。


    精準度就好比用筆,在上麵凋刻出一整座城市。


    一款芯片從圖紙階段到實物階段,大概需要經過2個步驟,分別是芯片設計和芯片製造。


    打造一款芯片就像是建造一棟大樓,而芯片設計就像給大樓設計建築圖紙。


    美利堅在芯片設計領域,占據了絕對優勢。


    他們的半導體產業起步最早,世界上第一塊芯片就是他們製造出來的。


    芯片是半導體產業的產品,半導體是用來做芯片的材料。


    這個行業,通俗一點,就叫芯片行業,學術一點就叫半導體行業,實際上相當於土豆和馬鈴薯的區別。


    僅僅設計出芯片,還是遠遠不夠的,他還需要用光刻機在芯片上進行凋刻。


    光刻機就相當於凋刻用的“筆”。


    而世界上,隻有3個國家有能力製造出光刻機,其中能製造出高端光刻機的,隻有島國和荷蘭。


    島國的國土麵積雖然不大,卻掌握著強大的科技實力和工業基礎。


    在八十年代,島國的光刻機是全世界最先進的。


    那個時候,尼康、佳能公司也能生產光刻機,曾一度占領行業50%以上的份額,包括ibm、英特爾、德州儀器在內的大客戶,無一不爭相搶購他們的光刻機。


    然而,由於這兩家公司的一個失誤,導致島國將光刻機巨頭的皇冠,拱手讓給了荷蘭的asml。


    asml從2000年左右開始研發euv光刻機,並決定大規模量產。


    彼時,島國光刻機企業卻認為係統太過複雜,並未選擇跟進。


    那個時候的asml還是一家小公司,麵對島國製霸光刻機市場,他們決定以小博大,彎道超車,試一試台積電,林本堅提出的“浸入式光刻機技術”。


    這個技術,你聽起來覺得很高端,實際上是一種非常簡單的技術,簡單到陳偉東第一次聽說的時候,還以為自己聽錯了。


    所以他對這件事情印象深刻。


    浸入式光刻技術,就是在光刻鏡頭,與待刻的矽晶片之間,充滿液體,就可以大幅度提高光刻機的加工精度!


    陳偉東將這項“技術”,告訴了克魯格教授。


    最近這些天,他在實驗中將那台從樹屋研究所帶回來的光刻機,精度一百九十納米的光刻機,成功刻製出了一百零五納米的密集圖形!


    這一結果讓他欣喜若狂!


    幾近失態!


    通常的光刻機,在光刻鏡頭與矽晶圓之間,沒有任何遮擋。


    當然,從另一個角度來說,它們之間,存在的是空氣。


    浸入式的思路,就是用液體來替換掉中間的空氣。


    由於液體具有折光率,所以當紫外線通過液體介質之後,它的光源波長就會縮短,從而起到精微刻製的作用。


    本來他們還覺得有些老舊的光刻機,突然搖身一變,成為了一百零五納米的光刻機,遠遠的超過了現有的光刻技術!


    其實這個浸入式光刻技術,並不算asml首創。


    早在80年代初,就有科學家采用浸入技術,成功提高了光刻效果。


    然而,這項技術,它的液體很容易汙染光學鏡片。


    所以這個這個時期的主流光刻技術研究,隻是將其作為一個過渡手段,並沒有起到足夠的重視。


    一旦下一代光刻技術成熟,便會毫不猶豫的拋棄浸入式光刻。

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